ZnO纳米线阵列的定向生长、光致发光及场发射性能

ZnO纳米线阵列的定向生长、光致发光及场发射性能

采用光刻和脉冲准分子激光沉积技术在Si衬底上制备了图形化的ZnO种子层薄膜.分别采用气相输运和水热合成法,制备了最小单元为30 μm的图形化的垂直定向生长的ZnO纳米线阵列.X射线衍射(XRD)分析显示ZnO纳米线阵列具有高度的c轴[001]择优取向生长特性.从扫描电子显微镜( SEM )照片看出,阵列图形完整清晰,边缘整齐.纳米线阵列室温下光致发光(PL)谱线中在380 nm左右具有强烈的紫外发射峰,可见光区域发射峰得到了抑制,证明ZnO纳米线缺陷少,晶体质量高.场致电子发射测量表明,ZnO纳米线阵列开启电场和阈值电场分别为2.3,4.2 V/μm,具有较好的场致电子发射性能.

作 者： 方国家 王明军 刘逆霜 李春 艾磊 李军 赵兴中 FANG Guo-jia WANG Ming-jun LIU Ni-shuang LI Chun AI Lei LI Jun ZHAO Xing-zhong   作者单位： 方国家,FANG Guo-jia(武汉大学物理科学与技术学院,声光材料与器件教育部重点实验室,湖北,武汉,430072;中国科学院,传感技术联合国家重点实验室,上海,200050)

王明军,刘逆霜,李春,艾磊,李军,赵兴中,WANG Ming-jun,LIU Ni-shuang,LI Chun,AI Lei,LI Jun,ZHAO Xing-zhong(武汉大学物理科学与技术学院,声光材料与器件教育部重点实验室,湖北,武汉,430072) 

刊 名： 发光学报  ISTIC PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE  年，卷(期)： 2008 29(3)  分类号： O0482.31 TN873.95  关键词： ZnO纳米线阵列   光致发光   场致电子发射  

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