纳米ZnO去除CH3 SH性能的研究

纳米ZnO去除CH3 SH性能的研究

在常温、常压条件下,考察了平均粒径分别为14.3 nm,21.2 nm,24.1 nm,35.3 nm的ZnO和商品ZnO(约200 nm)对CH3SH的去除性能,通过FTIR和XPS等技术对脱硫反应后的试样进行了表征.结果表明,CH3SH主要以分子形式吸附于纳米ZnO表面,并随纳米ZnO粒径的减小,吸附在纳米ZnO表面上CH3SH的FTIR特征峰和硫物种XPS特征峰逐渐增强,CH3SH在纳米ZnO表面进一步脱质子,反应活性逐渐增大,脱硫性能逐渐提高.说明纳米ZnO的表面结构是影响脱硫性能的主要因素.

作 者： 邵纯红 孙曙光 李芬 姜安玺 王路 Shao Chunhong Sun Shuguang Li Fen Jiang Anxi Wang Lu   作者单位： 邵纯红,Shao Chunhong(黑龙江工程学院,土木系,哈尔滨,150050;哈尔滨工业大学市政环境工程学院,哈尔滨150090)

孙曙光,Sun Shuguang(哈尔滨通力电力控制工程有限公司,哈尔滨,150090)

李芬,Li Fen(哈尔滨理工大学化学与环境工程学院,哈尔滨,150040)

姜安玺,王路,Jiang Anxi,Wang Lu(哈尔滨工业大学市政环境工程学院,哈尔滨,150090) 

刊 名： 黑龙江大学自然科学学报  ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF NATURAL SCIENCE OF HEILONGJIANG UNIVERSITY  年，卷(期)： 2008 25(3)  分类号： O614.24+1  关键词： 纳米ZnO   常温   CH3SH   脱硫  

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