衬底温度对沉积的NiTi薄膜晶化行为的影响

衬底温度对沉积的NiTi薄膜晶化行为的影响

将采用直流磁控溅射方法制备的NiTi薄膜沉积在热的衬底上,应用X射线散射和小角X射线散射技术研究了NiTi合金薄膜中生成的晶化粒子的界面特征和晶粒大小.结果表明:衬底加热可降低薄膜的晶化温度,衬底温度在350℃以上,溅射的NiTi薄膜已部分晶化;衬底温度在350、370℃和420℃溅射的NiTi薄膜,对应的晶化粒子的半径分别是2.40、2.59、2.81 nm;薄膜中的晶化粒子以形核长大的方式进行,结晶粒子与基底之间有清晰的界面.

作 者： 李永华 纪红 孟繁玲 邱利霞 郑伟涛 王煜明   作者单位： 李永华,孟繁玲,邱利霞,郑伟涛,王煜明(吉林大学,麦克德尔米德实验室材料系,吉林,长春,130023)

纪红(吉林大学物理学院,吉林,长春,130023) 

刊 名： 材料科学与工艺  ISTIC EI PKU 英文刊名： MATERIALS SCIENCE & TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2003 11(3)  分类号： O484.4  关键词： NiTi薄膜   晶化粒子   小角X射线散射  

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