大晶粒钛硅沸石TS-1晶貌的离子蚀刻改性

大晶粒钛硅沸石TS-1晶貌的离子蚀刻改性

钛硅沸石TS-1[1]的微孔体系由同是十元氧环的直通道和"Z"字形通道相交而成, 孔径0.51～0.56 nm, 晶体结构与硅铝ZSM-5沸石的MFI结构相同. TS-1能以稀双氧水为氧源, 使烃类发生选择氧化, 生成含氧化合物[2～8]. 并已在催化苯酚羟基化和环己酮氨氧化方面实现了工业化[9]. 但通常只有小晶粒TS-1(100～300 nm)才有令人满意的催化活性[9,10]. 迄今, 水热合成是改变TS-1晶貌特征的唯一有效途径, 而要得到小晶粒TS-1, 则需使用昂贵的四丙基氢氧化铵模板剂[9,11]. 文献[12]报道, 机械球磨可以改变大晶粒沸石的晶貌, 使沸石粒度变细.

作 者： 郭洪臣 刘娜 周军成 郭明星 王祥生 陈黎行 邹龙江   作者单位： 郭洪臣,刘娜,周军成,郭明星,王祥生,陈黎行(大连理工大学化工学院催化化学与工程系,大连116012)

邹龙江(大连理工大学材料测试与分析中心,大连116023) 

刊 名： 高等学校化学学报  ISTIC SCI PKU 英文刊名： CHEMICAL JOURNAL OF CHINESE UNIVERSITIES  年，卷(期)： 2003 24(6)  分类号： O614  关键词： 离子蚀刻   晶貌   TS-1,结晶度   活性位  

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