直流磁控溅射法制备TiO2薄膜的研究

直流磁控溅射法制备TiO2薄膜的研究

论术采用直流磁控溅射法制备TiO2薄膜的实验研究. 研究了氧流量、基片温度对制备TiO2薄膜的影响, 并测量了薄膜的晶相结构和表面形貌, 结果表明制备出了具有锐钛矿晶体结构的TiO2薄膜.

作 者： 刘子丽 肖峻 蒋向东 孙继伟 LIU Zi-li XIAO Jun JIANG Xiang-dong SUN Ji-wei   作者单位： 刘子丽,肖峻,LIU Zi-li,XIAO Jun(西南民族大学电气信息工程学院,成都,610041)

蒋向东,孙继伟,JIANG Xiang-dong,SUN Ji-wei(电子科技大学光电信息学院,成都,610054) 

刊 名： 西南民族大学学报（自然科学版）  ISTIC 英文刊名： JOURNAL OF SOUTHWEST UNIVERSITY FOR NATIONALITIES(NATRUAL SCIENCE EDITION)  年，卷(期)： 2009 35(6)  分类号： O48  关键词： TiO2薄膜   直流磁控溅射   氧流量   基片温度  

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