均匀软X射线多层膜制备方法研究

均匀软X射线多层膜制备方法研究

介绍了基于速度调制技术的均匀软X射线多层膜制备方法,并采用该方法在直径为150mm的平面硅基板上制备出Mo/Si多层膜,其中心波长为13.5nm,膜厚空间非均匀性优于1%,较转盘匀速溅射方法制备的多层膜膜厚空间均匀性提高了近6倍.

作 者： 金春水 林强 马月英 裴舒 曹健林   作者单位： 中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130022  刊 名： 强激光与粒子束  ISTIC EI PKU 英文刊名： HIGH POWER LASER AND PARTICLE BEAMS  年，卷(期)： 2003 15(5)  分类号： O434.14  关键词： 软X射线   多层膜   磁控溅射   均匀性  

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