金刚石膜在Si(100)衬底上的选择沉积

金刚石膜在Si(100)衬底上的选择沉积

采用自行设计的微波等离子体化学气相沉积系统,利用铜网作为模板实现了在Si(100)衬底上金刚石膜的选择沉积.用场发射扫描电子显微镜(SEM)、Raman散射谱对样品进行了表征与分析.并与同样生长条件下未采用模板时得到的金刚石样品进行了比较.结果发现,采用模板后,金刚石膜的成核密度和质量都得到很大提高.

作 者： 常开朋 程文娟 江锦春 张阳 朱鹤孙 沈德忠   作者单位： 常开朋,程文娟,江锦春,朱鹤孙,沈德忠(清华大学化学系,功能晶体与薄膜研究所,北京,100084)

张阳(清华大学化学系,功能晶体与薄膜研究所,北京,100084;清华大学光子与电子技术研究中心,北京,100084) 

刊 名： 人工晶体学报  ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS  年，卷(期)： 2003 32(6)  分类号： O484.1  关键词： 金刚石膜   Si(100)衬底   微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)  

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