热丝CVD金刚石薄膜制备及碳纳米管形核作用的研究

热丝CVD金刚石薄膜制备及碳纳米管形核作用的研究

利用热丝化学气相沉积法(HF-CVD)进行了金刚石薄膜制备和碳纳米管形核作用的研究.获得了制备金刚石薄膜的优化工艺参数.利用碳纳米管作为形核前驱获得了高质量的金刚石薄膜,其沉积速率可达2.5 μm/h,晶粒生长完美,而且没有出现聚晶现象.研究了碳纳米管涂料质量对薄膜沉积特性的影响,并对其机理进行了初步探讨.

作 者： 侯亚奇 庄大明 张弓 吴敏生 刘家浚   作者单位： 清华大学机械工程系,北京,100084  刊 名： 真空科学与技术学报  ISTIC EI PKU 英文刊名： VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2002 22(1)  分类号： O484.1  关键词： 金刚石薄膜   热丝化学气相沉积   碳纳米管   形核前驱  

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