十八烯反应膜的制备及其微观摩擦学性能研究

十八烯反应膜的制备及其微观摩擦学性能研究

通过紫外激发在氢终止的单晶硅表面制得了十八烯的反应膜,并采用接触角测定仪、红外光谱仪、椭圆偏光仪及原子力显微镜等表征了薄膜的结构和摩擦学特性.结果表明,在紫外光照射下,十八烯在硅表面通过键合生成有序反应膜,从而降低硅表面的粘着能和减小摩擦.

作 者： 周金芳 任忠海 杨生荣   作者单位： 周金芳,杨生荣(中国科学院兰州化学物理研究所,固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000)

任忠海(哈尔滨纺织科学研究所,黑龙江,哈尔滨,150070) 

刊 名： 摩擦学学报  ISTIC EI PKU 英文刊名： TRIBOLOGY TRIBOLOGY TRIBOLOGY TRIBOLOGY  年，卷(期)： 2002 22(5)  分类号： O623.121 TH117.3  关键词： 十八烯   反应膜   氢终止硅表面   AFM  

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